1.如何描述無(wú)塵車(chē)間清潔度的水平材料研討會(huì )凈化項目?今天，讓我們看看它的氣體清潔度。集成電路芯片工作環(huán)境中指定的氣體清潔度水平取決于集成電路芯片的處理速度。不同的技術(shù)氣體清潔水平取決于環(huán)境污染的機會(huì )和組件的潛在常見(jiàn)斷層。

2.例如，無(wú)塵車(chē)間在集成電路芯片制造的光學(xué)技術(shù)鏈路中，單晶硅晶片暴露于自然的生產(chǎn)中。當環(huán)境污染的可能性很高時(shí)，零件的廢物速率將相對較高。類(lèi)損壞，目前在超大綜合電路芯片的工業(yè)工廠(chǎng)中選擇微環(huán)境，以清理，保護生產(chǎn)過(guò)程中心城市，并在微環(huán)境危害中達到氣體清潔度和環(huán)境控制要求。在國家標準ISO14644-4中，B(參考)引入了“微電子技術(shù)純化室示例”。

3.無(wú)塵車(chē)間桌子上辦公區域的公共生產(chǎn)和加工的核心區域是一個(gè)人和/或自我溶解設備生產(chǎn)芯片的區域。為了確保工作的區域區域沒(méi)有環(huán)境污染，通常會(huì )選擇一個(gè)道路流或微環(huán)境來(lái)保護人和暴露的商品。公共設施區域是插座的一部分，沒(méi)有設置芯片生產(chǎn)線(xiàn)的操作員。該區域的運作通常不暴露于自然的生產(chǎn)。辦公區通?？拷苍O施。高速服務(wù)區域是沒(méi)有產(chǎn)品和生產(chǎn)線(xiàn)設備的區域，通?？拷ぷ鲄^和公共設施區域。

4.①在實(shí)施最佳的設計條件之前，應詳細說(shuō)明ISO擁有的水平。②表面層中的旋風(fēng)類(lèi)型表示純化室的氣體特性：u=一個(gè)-路流;n，非一條路流;M=混合流形式(U和N的混合物)。③平均旋風(fēng)速率通常適用于房間中的單向流。單側旋風(fēng)速度需要在測量區域的形狀下加熱的溫度。單側流速不指濁度的正風(fēng)。④非邊緣流量和混合流量在一小時(shí)內使用自然通風(fēng)的頻率。使用適用于建筑物高度3.M的無(wú)塵房間的系數排放空氣量建議值。⑤注意嚴格的密封對策。⑥硒或旋風(fēng)天然屏障適用于合理的污染物分離和治療自然保護區。

5.實(shí)際上，在此階段，全球所有國家的綜合電路制造企業(yè)。生產(chǎn)者根據產(chǎn)品類(lèi)型進(jìn)行處理。選擇了生產(chǎn)過(guò)程的技術(shù)。生產(chǎn)線(xiàn)設備。原材料采購和制造無(wú)塵車(chē)間的社會(huì )經(jīng)驗和經(jīng)濟發(fā)展證實(shí)，綜合電路清潔廠(chǎng)(房屋)的過(guò)程(房屋)需要空氣清潔。等級。根據統計數據，集成電路制造企業(yè)。制造商在計劃和建造集成電路芯片車(chē)間凈化項目時(shí)選擇空氣清潔水平。凈化室的木板和空間規劃?？諝鈨艋O備。凈化室建筑物和其他技術(shù)規格。獨特的工程措施。每個(gè)都有。不同的。